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초록
이온빔 증착법으로 제작한 코닝유리(Corning glass)/Ta(5 nm)/(Permalloy, Conetic)/Ta(5 nm) 박막에 대한 연자성의 특성에 대해 연구하였다. 퍼멀로이(Permalloy; NiFe)층과 코네틱(Conetic; NiFeCuMo)층을 증착하여 인가 자기장 방향에 용이축과 곤란축의 자기저항곡선으로부터 얻은 보자력과 포화자기장에 대해 각각 비교하였다. 두께가 10~15 nm인 코네틱 박막의 표면저항값은 퍼멀로 이 박막보다 2배 정도 높았으나 보자력과 포화자기장은 1/3배 정도 낮았으며, 자화율은 2~3배 정도 높은 초연자성의 특성을 가졌다. 퍼멀로이 박막보다 연자성의 특성이 높은 코네틱 박막을 이용한 스핀밸브나 터널접합의 소자를 개발할 수 있는 가능성을 확인하였다.
키워드
ion beam deposition (IBD) method; conetic thin film; permalloy thin film; coercivity; soft magnetic property; magnetic susceptibility; 이온빔 증착법; 퍼멀로이 박막; 코네틱 박막; 보자력; 연자성; 자화율
- 제목
- 퍼멀로이와 코네틱 박막의 연자성 특성 비교
- 제목 (타언어)
- Comparison of Soft Magnetic Properties of Permalloy and Conetic Thin Films
- 저자
- 최종구; 황도근; 이장로; 이상석
- 발행일
- 2009-08
- 저널명
- 한국자기학회지
- 권
- 19
- 호
- 4
- 페이지
- 142 ~ 146